Wetenschappers maken dunste metaal ooit
Voor kleine elektronica
12 juli 2010 | Pieterjan Van Leemputten
Een groep wetenschappers werkt aan de dunste metaallijnen die ooit zijn gemaakt. De ontwikkeling moet de toekomst van steeds kleiner wordende toestellen garanderen.
Het team bestaat uit wetenschappers van het Singaporees Instituut voor Materiaalonderzoek en Ontwikkeling en de universteiten van Cambridge (Engeland) en Sungkyunkwan (Zuid-Korea). De metalen lijnen die ze ontwikkelen kun je alleen zien met een microscoop.
Om het metaal zo dun te krijgen wordt een combinatie van materialen en techniek gebruikt. In het bijzonder gaat het om organometallic materiaal. Dit is een combinatie van metalen en organische onderdelen. Die worden behandeld met een combinatie van elektronenstralen en een gasbehandeling om de organische delen op een uniforme manier te verdelen.
Door die techniek zeggen de wetenschappers nu dat ze een lijn hebben met een dikte van zeven nanometer. De ruwheid (lees: dikte) ligt op 2,9 nnm. Dat is beter dan de vooropgestelde 3,2 nm die de onderzoekers dachten te bereiken. De bedoeling is om in 2011 2,9 nm te halen.
In een mededeling zegt het Singaporese instituut dat dergelijke ontwikkelingen belangrijk zijn voor het ontwikkelen van elektronische apparatuur. “Ons werk toont aan dat doorlopende metalen lijnen zo klein als 4 nanometer kunnen gaan”, klinkt het.
Concreet kan een microscopisch dunnne metalen lijn elektronische signalen overbrengen in kleine stroomcircuits. Als alles minder plaats inneemt, zal het eindproduct hiervan dus per definitie kleiner zijn. De wetenschappers stellen hun productieproces deze maand voor in het wetenschappelijk blad Advanced Functional Materials.
bron: ZDNet
Gerelateerde artikels op Clickx
Externe links
Related Partner info
Reacties
Reageer op dit artikel
